X-ray Diffraction Characterization of Process-induced Residual Stresss

X-ray Diffraction Characterization of Process-induced Residual Stresss

Auteur : Daniel J. Snoha

Date de publication : 1996

Éditeur : U.S. Army Research Laboratory

Nombre de pages : 18

Résumé du livre

Aucun résumé disponible pour ce livre.

Connexion / Inscription

Saisissez votre e-mail pour vous connecter ou créer un compte

Connexion

Inscription

Mot de passe oublié ?

Nous allons vous envoyer un message pour vous permettre de vous connecter.